EDI1000設計終端產水量為1m³/H，產水水質電阻率≥15MΩ/CM （25℃），主要由預處理系統、RO 系統、EDI系統拋光、混床系統和控制系統組成。適用于電子半導體封裝、實驗室分析、醫藥制劑、精細化工、SIP清洗、PCBA清洗等對水質要求嚴苛的領域。

技術特點：

1. 24小時自動運行，連續產水。

2. 2級RO+EDI+樹脂工藝。

3. 超純水水質，，適合半導體產品高潔凈度要求。

4. 產水水質長期穩定在電阻率≥15MΩ/CM。

5. 各部分自動檢測，自動運行保護，低能耗。

6. 控制和產水部分都放置在框架內，便于運輸和安裝。

7. 模組化設計，后續保養，維護和耗材更換更方便。

8. 產水率50%。

9. 配合我公司PCBA在線清洗機和半導體封裝清洗機使用。